說到等離子清洗機，大家首先會想到技術比較成熟的等離子清洗機主要分為電容耦合等離子清洗機(CCP)和電感耦合等離子清洗機(ICP)，而微波等離子清洗機相對比較少見。但隨著近年來國內半導體產業和新材料等領域的迅猛發展，微波等離子體表面處理技術也越來越受到重視。

微波等離子清洗機的概念和特點

微波等離子清洗的核心部件在于，可匹配調諧的波導管和等離子發生器，這兩個部件的設計和工藝與國外先進技術還存在不小的差距。國產實驗型微波等離子清洗機已經有在使用，而用于大規模工業清洗的微波等離子清洗機還鮮有看到。

工業應用的微波等離子清洗機一般都屬于表面波型，其工作模式是通過輻射微波電磁場直接將氣體擊穿實現放電，一般要求放電氣壓高，因為沒有離子的加速作用，其電子密度較高，對于有機物的去除和材料表面活化的效率是比較高的。

等離子清洗機與超聲波清洗機的主要區別

等離子清洗機和超聲波清洗機的主要區別等離子清洗是干式清洗，超聲波清洗是濕法清洗，在經過等離子清洗以后，被清洗物體已經很干燥，不必再經干燥處理即可送往下道工序。

等離子清洗在完成清洗去污的同時，還能改變材料本身的表面性能，如提高表面的潤濕性能，改善膜的附著力等，這在許多應用中都是非常重要的。

雖然等離子清洗機表面上比超聲波清洗機更加智能化，但是還有很多缺點需要提示，比如放電氣壓高帶來的問題是等離子體局域化比較嚴重，縱深清洗比較差，不利于多層面的大尺度的清洗處理，而且微波電磁場對電子元器件多少會有一定電磁輻射作用，有可能會造成電子元器件的擊穿損傷，最后就是設備造價高，維修保養不是很方便。